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| 产地 | 上海 |
| 品牌 | 肖晃纳米 |
| 货号 | XH-AlN-30 |
| 用途 | 用于制造集成电路基板,电子器件,光学器件,散热器 |
| 包装规格 | 100g/500g/1kg/5kg |
| CAS编号 | 24304-00-5 |
| 纯度 | 99.9-99.999% |
| 是否进口 | 否 |
纳米氮化铝(Aluminum Nitride, AlN)是一种纳米级无机材料,因其高热导率、良好绝缘性和化学稳定性,在电子、陶瓷及复合材料领域得到了广泛应用。其纳米颗粒特性赋予了材料更高的反应活性和表面能,使其在工业与科研中具有重要价值。
材料特性
纳米氮化铝的主要特性包括:
物理形态:白色至浅灰色粉末,颗粒均匀,粒径通常在20–100纳米范围内。
热性能:热导率高,耐高温,适合导热绝缘材料的应用。
电绝缘性:具有优良的介电性能,适合电子和电气绝缘材料使用。
化学稳定性:在常温和干燥环境中化学性质稳定,不易氧化或被酸碱腐蚀。
表面特性:表面积大、表面活性高,可通过表面改性与复合材料良好结合。
制备工艺
纳米氮化铝的制备方法主要包括:
气相氮化法:在高温氮气环境下反应生成纳米级氮化铝粉末。
溶胶-凝胶法:通过铝前驱体溶胶凝胶反应制备均匀纳米粉体。
机械球磨法:通过高能球磨获得纳米颗粒,提高比表面积。
热还原氮化法:在氨气或氮气气氛下将铝源还原并氮化得到纳米颗粒。
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