纳米氮化铝（Nano Aluminum Nitride, 简称nano-AlN）是一种粒径在纳米尺度（通常小于100纳米）的陶瓷粉体材料，具有优良的热导率、电绝缘性和化学稳定性。作为一种典型的宽禁带半导体材料，它在高性能电子封装、热管理和复合材料领域展现出显著的材料潜力。

一、基本特性

纳米氮化铝为白色或灰白色粉末，呈六方晶系结构。其在微观尺度下展现出以下特性：

• 热导率高：理想晶体的热导率可达200 W/m·K 以上；

• 低热膨胀系数：与硅材料匹配性好；

• 优良电绝缘性：电阻率高、介电常数低；

• 耐高温、耐腐蚀性强：在中性和还原性气氛中稳定；

• 纳米效应显著：比表面积大，反应活性高，便于与其他材料复合。

二、常见制备方法

纳米氮化铝的合成方式需在高温或特定气氛中进行，常见制备方法包括：

1. 直接氮化法：将超细铝粉在氮气或氨气氛中高温反应制得；

2. 碳热还原氮化法：以氧化铝为原料，在碳源和氮气共同作用下高温反应；

3. 溶胶-凝胶法：先制备含铝溶胶，通过氮化处理获得纳米级产物；

4. 气相沉积法（CVD）：适用于制备纯度高、分散性好的纳米粉体；

5. 高能球磨法：机械合成过程中控制粒径，同时促进氮化反应。